Mancini A., Rufoloni A., Vannozzi A., Braccini V., Putti M., Manfrinetti P., Rizzo F., Augieri A., Silva E., Armenio A.A., Pinto V., Piperno L., Sylva G., Masi A., Prili S., Celentano E.S.
Ключевые слова: chalcogenide, FeSeTe, films, PLD process, fabrication, buffer layers, films epitaxial, chemical solution deposition, substrate single crystal, substrate sapphire, substrate SrTiO3, X-ray diffraction, microstructure, resistive transition, resistance, temperature dependence, critical caracteristics, Jc/B curves, pinning force
© Copyright 2006-2012. Использование материалов сайта возможно только с обязательной ссылкой на сайт.
Свои замечания и пожелания вы можете направлять по адресу perst@isssph.kiae.ru
Техническая поддержка Alexey, дизайн Teodor.